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標題: 低于大氣壓的化學氣相沉積-SACVD [打印本頁]

作者: jfkj2020 時間: 2021-1-6 11:11
標題: 低于大氣壓的化學氣相沉積-SACVD

用于制造微電子器件的薄膜都是使用某種沉積技術形成的，該術語是指在基板上形成沉積物。在半導體器件制造中，以下沉積技術（及其常用的縮寫）為：

低壓化學氣相沉積-LPCVD

等離子體增強化學氣相沉積-PECVD

低于大氣壓的化學氣相沉積-SACVD

大氣壓化學氣相沉積-APCVD

原子層沉積-ALD

物理氣相沉積-PVD

超高真空化學氣相沉積-UHV-CVD

類金剛石碳-DLC

商業電影-CF

外延沉積-Epi

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用于制造微電子器件的薄膜都是使用某種沉積技術形成的，該術語是指在基板上形成沉積物。在半導體器件制造中 ...

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